脉冲激光沉积是采用高功率脉冲激光对材料进行蒸发，并在基底上形成薄膜的方法。该技术适用面非常广，从单质、氧化物、氮化物到高分子均能沉积；并且由于该技术可精确控制化合物薄膜中各元素的相对比例，尤其适合沉积高精度的多元化合物薄膜，先广泛用于高温超导、铁电、压电、生物陶瓷、光磁记录等薄膜的制备。